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リアルタイムモニタリングから高精度な解析まで、LUM-Bは幅広い用途に対応する汎用性と高い測定精度を備えています。

業界最大級の測定エリアに対応し、ラインビーム（Line Beam）や大面積アニール（Annealing）工程におけるビームの均一性を高精度に測定・解析します。

3 μmレベルの微小なレーザースポットまで測定・解析でき、高い測定精度が求められる微細加工用途に適しています。

Z軸スキャンにより3次元のビームプロファイルを可視化し、TGV加工に用いられるベッセルビーム（Bessel Beam）などの複雑なビーム特性を立体的に測定・解析します。

ISO規格に準拠した解析アルゴリズムと直感的な2D/3D表示機能を搭載し、半導体・ディスプレイなどの製造現場におけるレーザービームの測定・解析をサポートします。

焦点領域全体で90%以上の均一性（Uniformity）を実現し、追加調整を必要とせず、安定したフラットトップビームを形成します。

LUMOSは、標準製品では対応が難しい特殊な光学系や製造環境にも柔軟に対応します。お客様のご要望や使用環境に合わせたカスタマイズをご提案し、LUMOSの技術者が設計段階から直接サポートすることで、最適な測定環境の構築を支援します。