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リアルタイムのモニタリングから精密な解析まで。LUM-Bは、幅広い用途に対応する汎用性と高い測定精度を兼ね備えています。

業界最大級の測定面積に対応し、ラインビーム（Line Beam）や大面積アニール（Annealing）工程の均一性を詳細に解析します。

3 μmレベルの微小なレーザースポットまで測定・解析でき、高精度が求められる微細加工に適しています。

Z軸スキャンによって3Dエネルギー分布を可視化し、TGVのベッセルビーム（Bessel Beam）など、複雑な光学特性を立体的に解析します。

ISO規格に基づく解析アルゴリズムと直感的な2D/3D表示を統合。半導体・ディスプレイの製造現場で、その有用性が実証されています。

焦点領域全体で90%以上の均一性（Uniformity）を維持し、追加調整なしでフラットトップのビームプロファイルを形成します。

LUMOSの強みは、柔軟な対応力です。標準製品では対応が難しい特殊な光学系や独自の製造環境に向けて、お客様の要件に合わせたカスタマイズ（Customizing）をご提供します。LUMOSの技術者が設計に直接携わり、お客様の工程改善を支えます。