产品

从实时监测到精密分析，LUM-B 兼具出色的通用性与准确性。

支持行业最大测量面积，全面分析线光束（Line Beam）及大面积退火（Annealing）工艺的均匀性。

可测量并分析小至 3μm 的超微细激光光斑，专为挑战极限的精密加工领域优化。

通过 Z 轴扫描重建三维能量分布，立体分析 TGV 贝塞尔光束（Bessel Beam）等复杂光学特性。

融合基于 ISO 标准的分析算法与直观的 2D/3D 可视化，应用效能已在半导体与显示行业现场得到验证。

在整个焦区保持 90% 以上的均匀度（Uniformity），无需额外调整，即可获得平顶光束分布。

LUMOS 的真正价值在于灵活性。针对标准产品难以满足的特殊光学系统或独特工艺环境，我们提供定制化（Customizing）解决方案。LUMOS 技术团队直接参与设计，助力贵公司的工艺创新。